Создать свой профиль
Процитировано
Все | Начиная с 2019 г. | |
---|---|---|
Статистика цитирования | 1543 | 1364 |
h-индекс | 12 | 11 |
i10-индекс | 15 | 12 |
Соавторы
- Chil-Sung ChoiSamsung Advanced Institute of TechnologyПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Hong-Seok LeeAssociate Professor of Electrical Engineering, Pukyong National UniversityПодтвержден адрес электронной почты в домене pknu.ac.kr
- Jungkwuen AnSamsung ResearchПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Hoon SongSamsung Advanced Institute of TechnologyПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Sergey E DubyninФизический институт имени П. Н. Лебедева Российской академии наукПодтвержден адрес электронной почты в домене lebedev.ru
- Kim Sun IlSamsung Advanced Institute of TechnologyПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Sergey S. KopenkinFIANПодтвержден адрес электронной почты в домене lebedev.ru
- Vladislav V. DruzhinBauman MSTUПодтвержден адрес электронной почты в домене bmstu.ru
- Yunhee KimSamsung electronicsПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Sungwoo HwangSamsung Advanced Institute of TechnologyПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Путилин Андрей НиколаевичФизический институт им. П.Н.Лебедева РАНПодтвержден адрес электронной почты в домене lebedev.ru
- Igor YanusikSamsungПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Young KimSamsung Advanced Institute of TechnologyПодтвержден адрес электронной почты в домене samsung.com
- Kyungsuk PyunNvidia, Stanford UniversityПодтвержден адрес электронной почты в домене nvidia.com
- Dusik ParkUniversity of SuwonПодтвержден адрес электронной почты в домене suwon.ac.kr
- Konstantin KarapetyanPhD candidate, University of BonnПодтвержден адрес электронной почты в домене iap.uni-bonn.de
Подписаться
Alexander V Morozov
Samsung R&D Intitute Rus
Подтвержден адрес электронной почты в домене rosatom.ru